سلکان ڈائی آکسائیڈ ویفر SiO2 ویفر موٹا پالش، پرائم اور ٹیسٹ گریڈ
ویفر باکس کا تعارف
| پروڈکٹ | تھرمل آکسائیڈ (Si+SiO2) ویفرز |
| پیداوار کا طریقہ | ایل پی سی وی ڈی |
| سطح پالش کرنا | ایس ایس پی/ڈی ایس پی |
| قطر | 2 انچ / 3 انچ / 4 انچ / 5 انچ / 6 انچ |
| قسم | P قسم / N قسم |
| آکسیکرن پرت کی موٹائی | 100nm ~ 1000nm |
| واقفیت | <100> <111> |
| برقی مزاحمت | 0.001-25000(Ω•سینٹی میٹر) |
| درخواست | سنکروٹران تابکاری نمونہ کیریئر کے لیے استعمال کیا جاتا ہے، PVD/CVD کوٹنگ بطور سبسٹریٹ، میگنیٹران سپٹرنگ گروتھ سیمپل، XRD، SEM،اٹامک فورس، انفراریڈ سپیکٹروسکوپی، فلوروسینس سپیکٹروسکوپی اور دیگر تجزیہ ٹیسٹ سبسٹریٹس، مالیکیولر بیم اپیٹیکسیل گروتھ سبسٹریٹس، کرسٹل لائن سیمی کنڈکٹرز کا ایکس رے تجزیہ |
سیلیکون آکسائیڈ ویفرز سلکان ڈائی آکسائیڈ فلمیں ہیں جو آکسیجن یا آبی بخارات کے ذریعے اعلی درجہ حرارت (800°C~1150°C) پر ماحولیاتی دباؤ والی فرنس ٹیوب آلات کے ساتھ تھرمل آکسیڈیشن کے عمل کے ذریعے اگائی جاتی ہیں۔ عمل کی موٹائی 50 نینو میٹر سے لے کر 2 مائیکرون تک ہوتی ہے، عمل کا درجہ حرارت 1100 ڈگری سیلسیس تک ہوتا ہے، نمو کے طریقہ کار کو "گیلی آکسیجن" اور "خشک آکسیجن" دو قسموں میں تقسیم کیا جاتا ہے۔ تھرمل آکسائیڈ ایک "بڑھا ہوا" آکسائیڈ کی تہہ ہے، جس میں CVD جمع آکسائیڈ تہوں سے زیادہ یکسانیت، بہتر کثافت اور زیادہ ڈائی الیکٹرک طاقت ہوتی ہے، جس کے نتیجے میں اعلیٰ معیار ہوتا ہے۔
خشک آکسیجن آکسیکرن
سلیکون آکسیجن کے ساتھ رد عمل ظاہر کرتا ہے اور آکسائیڈ کی تہہ مسلسل سبسٹریٹ پرت کی طرف بڑھ رہی ہے۔ خشک آکسیڈیشن کو 850 سے 1200 ° C کے درجہ حرارت پر، کم شرح نمو کے ساتھ انجام دینے کی ضرورت ہے، اور اسے MOS موصل گیٹ کی نمو کے لیے استعمال کیا جا سکتا ہے۔ خشک آکسیکرن کو گیلے آکسیکرن پر ترجیح دی جاتی ہے جب اعلیٰ معیار کی، انتہائی پتلی سلکان آکسائیڈ پرت کی ضرورت ہو۔ خشک آکسیکرن کی صلاحیت: 15nm ~ 300nm۔
2. گیلے آکسیکرن
یہ طریقہ اعلی درجہ حرارت کے حالات میں فرنس ٹیوب میں داخل ہو کر آکسائیڈ کی تہہ بنانے کے لیے پانی کے بخارات کا استعمال کرتا ہے۔ گیلے آکسیجن آکسیڈیشن کی کثافت خشک آکسیجن آکسیڈیشن سے قدرے خراب ہے، لیکن خشک آکسیجن آکسیڈیشن کے مقابلے میں اس کا فائدہ یہ ہے کہ اس کی شرح نمو زیادہ ہے، جو 500nm سے زیادہ فلم کی نمو کے لیے موزوں ہے۔ گیلے آکسیکرن کی گنجائش: 500nm~2µm۔
AEMD کی وایمنڈلیی پریشر آکسیڈیشن فرنس ٹیوب ایک چیک افقی فرنس ٹیوب ہے، جس کی خصوصیات اعلیٰ عمل کے استحکام، اچھی فلمی یکسانیت اور اعلیٰ ذرہ کنٹرول ہے۔ سلکان آکسائیڈ فرنس ٹیوب بہترین انٹرا اور انٹر ویفرز یکسانیت کے ساتھ فی ٹیوب 50 ویفرز تک پروسیس کر سکتی ہے۔
تفصیلی خاکہ
